1. Reduce porozitatea, viteza de formare a nucleului de cristal este mai mare decât rata de creștere, care promovează rafinamentul nucleului de cristal.
2. Îmbunătățiți forța de lipire și faceți filmul passivation rupe în jos, care este propice pentru legătura fermă dintre substrat și acoperire.
3. Îmbunătățirea capacității de acoperire și dispersie. Potențialul negativ ridicat al catodului permite depunerea părților passivate ale galvanizării obișnuite și încetinește "arsură" și "dendritic" a părților proeminente ale părților complicate datorită consumului excesiv de ioni depozitați. Defectele depozitate pot fi reduse la 1/3~1/2 din grosimea originală pentru a obține o anumită caracteristică a acoperirii (cum ar fi culoarea, fără porozitate etc.), economisind materii prime.
4. Reduceți stresul intern al acoperirii, îmbunătățiți defectele de zăbrele, impuritățile, golurile, tumorile etc., obțineți cu ușurință acoperiri fără fisuri și reduceți aditivii.
5. Este benefic pentru a obține acoperire din aliaj cu compoziție stabilă.
6. Îmbunătățirea dizolvării anodului, fără activator de anod.
7. Îmbunătățirea proprietăților mecanice și fizice ale acoperirii, ar fi creșterea densității, reducerea rezistenței la suprafață și rezistența la volum, îmbunătățirea rezistenței, rezistenței la uzură și rezistenței la coroziune și controlul durității acoperirii.
